Samsung заплатит $1,2 млрд за нарушение патентных прав

21.06.2018

FinFET — это технологический процесс на транзисторах, используемый сегодня при создании любого мобильного процессора. Он был разработан одним из университетов Южной Кореи — Институтом передовых технологий (KAIST). Samsung использовал патенты университета без соответствующей лицензии и теперь должен заплатить за них.

По данным KAIST, ранее Samsung не обращал внимания на технологию FinFET, утверждая, что это временная мода, а не шаг к революции в индустрии мобильных процессоров. Все изменилось, когда соперник Samsung, Intel, выкупил права на использование данного изобретения и применил его в собственных процессорах. Корейский производитель моментально сменил мнение и запустил производство процессоров на основе технологии FinFET, не платя за лицензию.

Последние микропроцессоры Samsung производятся в 10-нанометровом техпроцессе FinFET

Во время судебного разбирательства Samsung заявила, что сотрудничает с университетом в разработке FinFET и, по его мнению, нарушения права на интеллектуальную собственность не было. Также адвокаты корейского гиганта задавали вопросы о действительности самого патента.

Однако суд решил удовлетворить претензии KAIST, и теперь Samsung должен выплатить ему $1,2 млрд. Было установлено, что корейский производитель сознательно нарушил патентное право. Отметим, что ранее суд удовлетворил сходный иск KAIST на сумму $400 млн, но решение было проигнорировано. Вместе с Samsung нормы закона также нарушили Qualcomm и GlobalFoundries, однако этим компаниям удалось избежать решения о выплате компенсации. Samsung разочарован исходом суда, и вполне возможно, что оно будет обжаловано, как обжаловано решение по иску Apple о дизайнерских патентах.

Читайте также:

Фото: компании-проиводители